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    硅片價格與掩模價格趨勢

    發(fā)布時間:2010-06-03 來源:電子元件技術網

    機遇與挑戰(zhàn):
    • 硅片的制造價格逐漸呈下降趨勢
    • 掩模價格, 依年比較逐年下降
    市場數據:
    • 0.18微米及0.15微米的代工價格在2009 Q2時下降
    • 300mm硅片在2009 Q2和2009 Q3時分別下降3%及4%
    • 0.18微米掩膜, 在2009 Q3與2006 Q3比較時,下降幅度達57%

    GSA(全球半導體合作聯(lián)盟)每個季度對于全球部分fabless和IDM企業(yè)進行每個硅片的平均制造價格和每套掩模的平均售價進行抽樣調查。

    硅片的制造價格逐漸呈下降趨勢, 如圖1所示, 每個季度的各種不同尺寸產出硅片的價格。

    隨著全球芯片市場的需求增大與普及使用,它的產能擴大,統(tǒng)計在2005年Q4時300mm硅片的產能利用率達到前所未有的高點91.8%時,其售價達到最高值,每片平均4669美元。同樣,在2005年Q3到2009年Q3期間,200mm硅片在2005年Q3時其產能利用率達到90.1%時,其售價達到最高值,為每片平均售價1307美元,以及150mm硅片在2007年Q2, 其產能利用率達到89.3%時其硅片售價達到最高,為每片479美元。

    圖1 各種不同硅片尺寸的價格,依季度計

    Source: GSA Wafer Fabrication Pricing Reports
     
    在2008 Q3到2009 Q3期間,大部分fabless和IDM參與者采用成熟工藝節(jié)點,如0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米及0.13微米,所以GSA 的最新季度報告中,大部分采訪者感覺0.13微米技術在下個季度(2009年Q4)中會保持或增加它的市場份額為主,0.18微米技術節(jié)點將緊跟其后。這一切表明在產業(yè)的困難時期,成本節(jié)省與風險管理的考慮恐怕比先進制程更為重要。
     
    從歷史上看,半導體業(yè)總是愿意依更快的速度移入下一代先進制造工藝,但是在這特定時刻,企業(yè)更關注的是如何在某種工藝下賺取利潤。
     
    如下圖2所示, 在成熟工藝下200mm硅片的制造價格相對保持穩(wěn)定。然而在0.18微米與0.15微米時是例外, 由於在2008 Q4時產能利用率僅68.3%,所以在2009 Q1時代工廠為了擴大生產線的填充而降低價格。在2009 Q1產能利用率下降到56.8%時, 迫使0.18微米及0.15微米的代工價格在2009 Q2時下降。而對于300mm硅片, 其平均售價在2009 Q1時上漲小于1%,而在2009 Q2和2009 Q3時分別下降3%及4%。
     

    圖2所示 各種不同工藝節(jié)點時售價的變化

    Source: GSA Wafer Fabrication Pricing Reports

    對于用來制造0.35微米、0.25微米、0.18微米及0.13微米的200mm的掩模價格, 依年比較逐年下降。依0.18微米計, 在2009 Q3與2006 Q3比較時,下降幅度達最大,為57%。緊接著是0.25微米,0.35微米和0.13微米。從不同的技術節(jié)點比較, 掩模的平均售價上升, 如依2009 Q3計,0.13微米的掩模價格要比0.18微米的高出112%,0.18微米要比0.25微米高出90%, 而0.25微米僅比0.35微米高出10%。

    依2009 Q3計, 對于300mm掩模其90納米的掩模價格相比2008 Q3下降22%,而65納米的掩模價格增加21%(Y to Y) 。在2009 Q3時65納米的掩模價格要比90納米高出98%。

    在GSA進行硅片價格調查的同時也包括了產能的趨勢。從大部分參與者的反映,它們的代工供應商并沒有延長交貨期, 而從2009 Q1到Q3期間反而持續(xù)減少。然而對于大部分參與的調查者表明它們的產能可以滿足, 然而在2009的頭9個月中產能持續(xù)的下降。但是從2009 Q4起無論百分比或是產能都開始扭轉, 依季度比較有1%的增加。

    GSA的硅片價格報告中也包括有后道封裝的價格數據。總之欲知詳情數據需要向GSA購買。
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