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    臺(tái)積16FinFET工藝助力Xilinx打造最高性能FPGA器件

    發(fā)布時(shí)間:2013-06-05 責(zé)任編輯:eliane

    【導(dǎo)讀】近日,賽靈思公司(Xilinx)與臺(tái)積公司合作,采用16納米FinFET工藝聯(lián)手打造擁有最快上市最高性能優(yōu)勢(shì)的FPGA器件。賽靈思“FinFast”計(jì)劃年內(nèi)測(cè)試芯片推出,首款產(chǎn)品明年面市。

    Xilinx和臺(tái)積公司共同宣布聯(lián)手推動(dòng)一項(xiàng)賽靈思稱之為“FinFast”的專項(xiàng)計(jì)劃,采用臺(tái)積公司先進(jìn)的16納米FinFET (16FinFET)工藝打造擁有最快上市、最高性能優(yōu)勢(shì)的FPGA器件。雙方分別投入所需的資源組成一支專屬團(tuán)隊(duì),針對(duì)FinFET工藝和賽靈思UltraScale架構(gòu)進(jìn)行最優(yōu)化。基于此項(xiàng)計(jì)劃,16FinFET測(cè)試芯片預(yù)計(jì)2013年晚些時(shí)候推出,而首款產(chǎn)品將于2014年問市。

    臺(tái)積16 FinFET工藝助力Xilinx打造最高性能FPGA器件
    臺(tái)積16 FinFET工藝助力Xilinx打造最高性能FPGA器件

    此外, 兩家公司也在共同合作藉助臺(tái)積公司的CoWoS 3D IC制造流程以實(shí)現(xiàn)最高級(jí)別的3D IC系統(tǒng)集成度及系統(tǒng)級(jí)性能, 雙方在此領(lǐng)域合作的相關(guān)產(chǎn)品將稍后擇期另行發(fā)布。

    賽靈思公司總裁兼CEO Moshe Gavrielov指出:“我非常相信,賽靈思同臺(tái)積公司在16納米“FinFast”計(jì)劃上的合作將延續(xù)雙方之前在各項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)上所獲得的成果和領(lǐng)導(dǎo)地位。我們致力于和臺(tái)積公司合作是因?yàn)榕_(tái)積公司在工藝技術(shù)、設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)、服務(wù)、支持、質(zhì)量和產(chǎn)品交貨等各方面,都是專業(yè)集成電路制造服務(wù)行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者。 ”

    臺(tái)積公司董事長(zhǎng)兼CEO張忠謀博士表示:“我們同賽靈思攜手合作,致力于將業(yè)界最高性能、最高集成度的可編程器件迅速導(dǎo)入市場(chǎng)。我們將通力合作, 于2013年和2014年分別先后推出采用臺(tái)積公司20SoC工藝與16FinFET工藝的世界級(jí)產(chǎn)品。”

    臺(tái)積公司最近宣布將16FinFET工藝技術(shù)的生產(chǎn)進(jìn)程提前至2013年。賽靈思與臺(tái)積公司的合作,除了將充分受惠于該工藝技術(shù)生產(chǎn)進(jìn)度加快之外,還享有臺(tái)積公司16FinFET技術(shù)所帶來的高性能與低功耗優(yōu)勢(shì)。

    賽靈思同臺(tái)積公司的合作,將高端FPGA的各項(xiàng)需求導(dǎo)入FinFET的開發(fā)過程,恰如其在28HPL和20SoC工藝開發(fā)時(shí)的做法一樣,雙方將進(jìn)一步針對(duì)臺(tái)積公司的工藝技術(shù)、賽靈思的UltraScale架構(gòu)和新一代開發(fā)工具統(tǒng)統(tǒng)進(jìn)行最優(yōu)化, 以實(shí)現(xiàn)最佳合作成果。UltraScale 是賽靈思的最新ASIC級(jí)架構(gòu),能從20納米平面式工藝到16納米以及更先進(jìn)的FinFET工藝進(jìn)行擴(kuò)展,也可以通過3D IC 技術(shù)進(jìn)行系統(tǒng)單芯片的擴(kuò)展。

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